蓝景 半导体超纯水溶解氧怎么测？为什么必须用0.01µg/L级手持溶氧仪

在半导体制造中，超纯水（UPW）中的溶解氧即使低至1 µg/L（1 ppb），也可能引发晶圆氧化、金属沉积等致命缺陷。但普通溶氧仪最-低仅能测到100 µg/L，根本无法满足需求。

手持式溶解氧分析仪凭借0.01 µg/L超高分辨率 + 膜法免维护传感器，成为超纯水痕量氧监控的关键工具。

✅ 为何必须用它？

• 量程精准匹配：覆盖0.01 µg/L–20 mg/L，完-全满足SEMI F63标准对UPW氧含量≤1 µg/L的要求

• 无污染设计：物理膜法测量，不添加电解液，避免引入离子污染

• 快速响应：＜15秒出结果，支持在线取样点即时检测

某12英寸晶圆厂将该仪器用于抛光后清洗段水质巡检，成功拦截一次因氮封失效导致的氧浓度缓慢上升事件，避免整批晶圆报废。

手持式溶解氧分析仪不仅是“测氧"，更是守护芯片良率的隐形防线。